光刻机赛道深度解析：业绩分化与投资逻辑

一、光刻机赛道业绩分化显著，16家大增8家巨亏 1. 行业趋势：全球光刻机市场规模预计2025年达600亿美元，中国本土替代加速 2. 细分赛道：DUV（深紫外）设备需求稳定，ArF（准分子激光）设备增速迅猛 3. 公司经营：中微公司、北方华创等企业通过技术突破实现业绩高增长 4. 投资逻辑：重点关注设备国产化率提升、先进制程需求释放 二、光刻机技术路线演进：EUV引领下一代制造 1. 技术迭代：EUV（极紫外）光刻机成为3nm及以下制程核心设备 2. 市场格局：ASML占据70%以上市场份额，中国厂商加速追赶 3. 投资机会：EUV设备国产化率提升空间巨大 三、光刻机产业链深度解析：设备-材料-服务协同创新 1. 核心设备：光刻机主机厂技术壁垒最高，研发投入占比超30% 2. 关键材料：光刻胶、光刻胶显影液等材料国产替代加速 3. 服务环节：设备维护、工艺优化等服务环节价值持续释放 四、光刻机投资标的筛选：技术储备与市场空间双维度 1. 核心标的：中微公司（等离子体刻蚀）、北方华创（光刻机整机） 2. 潜力标的：上海新阳（光刻胶）、晶盛机电（设备配套） 3. 投资逻辑：技术突破+市场空间双重驱动 五、光刻机行业风险提示：技术迭代速度、市场竞争加剧、供应链波动 1. 技术风险：EUV技术路线是否持续领先 2. 市场风险：国际巨头价格战对中小企业挤压 3. 供应链风险：关键零部件进口依赖度较高 六、光刻机投资展望：2024年或迎业绩拐点 1. 需求端：5G、AI芯片带动先进制程需求 2. 供给端：国产设备产能释放加速 3. 投资建议：关注设备厂商技术突破与市场份额提升